光束线 |
实验站 |
研究内容 |
实验技术 |
能量范围 |
用光模式 |
1W1A |
漫散射实验站 |
晶体材料 薄膜、多层膜 纳米材料 |
X射线共面衍射/散射 X射线掠入射衍射/散射 X射线反射率/非镜面散射 X射线掠入射小角散射 |
8.05keV,13.9 keV |
专用、兼用 |
1W1B |
XAFS实验站 |
材料科学、纳米科学、生物医学、环境科学、化学化工、能源催化、人文考古 |
透射XAFS 荧光XAFS |
4-23keV |
专用、兼用 |
1W2A |
小角散射实验站 |
纳米材料、介孔材料、生物大分子、高聚物等 |
常规小角X射线散射(SAXS) 广角X射线散射(WAXS) 掠入射小角X射线散射(GISAXS) 时间分辨小角X射线散射(T-SAXS) |
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专用、兼用 |
1W2B |
生物大分子实验站 |
生物大分子 |
反常散射(MAD/SAD) 同晶置换(MIR/SIR) 分子置换(MR) XAFS |
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专用、兼用 |
3W1A |
生物大分子实验站 |
生物大分子 |
反常散射(MAD/SAD) 同晶置换(MIR/SIR) 分子置换(MR) |
6-18keV |
专用 |
3B1 |
光刻、LIGA实验站 |
MEMS电泳芯片、金属光栅、热压模具、加速度计微结构、火花电极、金属微孔、微质谱仪金属结构、金属镂空模版、精密微金属结构系统等 |
LIGA技术(SU8技术) 硅刻蚀技术 纳米岛光刻技术 |
光刻:0.5-1keV LIGA:2-10keV |
专用 |
4W1A |
X射线成像站 |
晶体材料、生物医学材料、复合材料 |
晶体形貌 相位衬度成像 |
5-20keV |
专用 |
4W1B |
X射线荧光微分析实验站 |
地质矿产、生物医学、环境科学、材料科学、人文考古、法学鉴定 |
XRF 微区XRF 微区XAFS |
准单色光聚焦模式 8-15keV 单色光聚焦模式5-18.5keV |
专用 |
4W2 |
高压实验站 |
晶体结构相变 物质状态方程 |
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专用 |
4B8 |
真空紫外实验站 |
生物大分子、发光材料 |
同步辐射圆二色谱(SRCD)、荧光光谱和吸收谱等真空紫外光谱 |
120-350nm |
专用、兼用 |
4B7A |
中能实验站 |
探测器标定、环境科学、农业、材料科学 |
光学剂量标准测定 XAFS |
Si(111):2050eV-5700 eV InSb(111):1750eV-3400eV |
专用、兼用 |
4B7B |
软X光实验站 |
探测器标定、光学原件测试、计量标准、光谱学 |
光学剂量标准测定 XAFS |
50eV-1700eV |
专用、兼用 |
4B9A |
衍射站 |
材料科学、纳米科学、催化能源、生物科学 |
X射线衍射(XRD) X射线反射率(XRR) 小角散射(SAXS) 衍射异常精细结构(DAFS) XAFS |
4-15keV |
专用、兼用 |
4B9B |
光电子能谱实验站 |
材料 |
同步辐射角积分光电子能谱(SRPES)、同步辐射角分辨光电子能谱(ARPES)、高能电子衍射(RHEED)、低能电子衍射(LEED)、常规X射线光电子能谱(XPS)等 |
10 -1000 eV |
专用、兼用 |